晶元清洗機

晶元清洗機

 應用領域(yu)：

主要用于(yu)高端晶(jing)元灰塵的(de)清洗，如下圖：

 設備特點(dian)：

可(ke)(ke)更換清洗吸(xi)盤(pan)，可(ke)(ke)使用(yong)4-12英寸清洗吸(xi)盤(pan)；

可根據運行要求編(bian)制(zhi)和調整運行程(cheng)(cheng)序，并可自行編(bian)制(zhi)設(she)備運行過程(cheng)(cheng)、清洗時間及各種參(can)數；

實時在線(xian)監測設(she)備運行狀態(tai)和參數，自動門設(she)置安(an) 全柵，確保安(an) 全運行；

采用真(zhen)空吸附清洗盤，使硅片夾具的取(qu)放更加安 全方(fang)便；

擺(bai)臂清洗(xi)，清洗(xi)范圍可編輯(ji)，適用范圍廣，無清洗(xi)盲區，無二次污染(ran)，清洗(xi)效果更好；

設備(bei)(bei)清(qing)洗間全封閉，并配備(bei)(bei)自動擋(dang)水環，有效防止二(er)次污染；

高速離心(xin)設(she)計(ji)，轉(zhuan)速可調100-2000r/min；

配(pei)備獨(du)特的(de)靜電(dian)消 除(chu)裝(zhuang)置，達到較好的(de)輔(fu)助清洗效果，可選(xuan)用氮氣；

設備配有大面積透明觀察窗；

節省空間設計(ji)，寬度減小，結(jie)構緊(jin)湊，占用空間小；

整(zheng)機鏡(jing)面不銹鋼本體耐酸堿(jian)，對工作環境無(wu)污染，鏡(jing)殼易于維護(hu)。

 清洗工藝：

 放入(ru)物(wu)料  —— 一鍵清(qing)洗開(kai)始，安(an) 全門自(zi)動(dong)關閉 ——  二流(liu)體(ti)清(qing)洗 —— 離心脫(tuo)水（去(qu)靜電(dian)離子風與加熱(re)腔體(ti)輔助干燥) —— 清(qing)洗完(wan)畢 —— 報警(jing)提示 —— 玻璃門自(zi)動(dong)打開(kai)。

采用(yong)高速(su)離心設計，主要(yao)使用(yong)于4-12英寸的(de)硅晶(jing)圓片的(de)精密清(qing)洗(xi)；搭配二(er)流體(ti)清(qing)洗(xi)、靜電消 除/氮氣、高速(su)離心等裝(zhuang)置(zhi)，使被清(qing)洗(xi)件(jian)達到干燥(zao)、潔(jie)凈的(de)目的(de)。

技術參數：