半導體產品清洗解決方案：清洗的好處有哪些

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　　電子清洗技術(包括清洗劑和相應的清洗工藝)對電子工業特別是半導體工業的生產非常重要。在半導體器件和集成電路的制造過程中，幾乎每一道工序都涉及清洗。集成電路的集成度越高，制造工序越多，需要清洗的工序也就越多。在很多清洗工藝中，只要有一道工藝不符合要求，就會放棄之前的工作，導致整批芯片報廢。

　　在芯片制造的過程中，需要專門的水來保證產品的清潔度，而生產后的清洗是保證良率非常重要的一點。

　　在晶圓生產的整個過程中，要進行多次化學腐蝕和清洗。每一步蝕刻和清洗后，用水沖洗。由于半導體器件非常容易受到污染，因此必須對工藝水進行相應的處理，以達到一定程度的清潔度。

　　普通自來水中含有礦物質、鹽類、有機化合物等，會對晶圓產生重大影響。

　　因此，通過反滲透和離子交換系統去除晶圓中使用的水。去除離子的水通常稱為去離子水。正常去離子水在室溫下的電阻為10兆歐，用紫外線去除水中的細 菌。

　　半導體清洗技術是指在氧化、光刻、外延、擴散、鉛蒸發等半導體制造工藝之前，通過物理或化學方法去除污染物和自氧化物的過程。

　　污染物是半導體器件性能、可靠性和成品率的主要威脅。研究表明，高達80%的芯片電氣故障是由污染引起的缺陷造成的。

　　污染物通常以原子、離子、分子、粒子或膜的形式存在，通過化學或物理吸附存在于硅片表面或硅片氧化膜中。