SMT鋼網清洗液和半導體清洗劑是什么？

半導體水基清洗劑主要用于清洗表面沾污有石蠟、油脂和油脂類高分子化合物以及表面沾污有金屬原子和金屬離子等。在半導體分立器件和中、小規模集成電路中能夠完全代替傳統半導體清洗工藝中使用的清洗液。

1.產品用途

半導體水基清洗劑主要用于清洗被石蠟、油脂和油脂聚合物化合物污染的表面，以及被金屬原子和金屬離子污染的表面。它可以完全替代半導體分立器件和中小型集成電路中傳統半導體清洗工藝中使用的清洗液。

2.產品特點

該清(qing)洗(xi)劑的(de)清(qing)洗(xi)效果相(xiang)當于(yu)(yu)或略優于(yu)(yu)傳統清(qing)洗(xi)工藝，但(dan)成(cheng)本(ben)大大降低，僅(jin)為傳統清(qing)洗(xi)工藝成(cheng)本(ben)的(de)10~30%。無(wu) 毒、無(wu)腐蝕性，對(dui)人(ren)體無(wu)傷害，對(dui)環境無(wu)害，經(jing)濟(ji)效益顯著。

3.使用過程

配制清洗(xi)液時，將(jiang)去離(li)(li)子(zi)(zi)水(shui)加(jia)熱至40-60℃，但不超(chao)過60℃。也可以(yi)用室溫去離(li)(li)子(zi)(zi)水(shui)配制。然(ran)(ran)(ran)后按照以(yi)下體積比進行準備。水(shui)基清洗(xi)劑：去離(li)(li)子(zi)(zi)水(shui)=1:19。將(jiang)準備好的水(shui)基清洗(xi)劑倒(dao)入(ru)石(shi)英杯中(zhong)。清洗(xi)液應(ying)(ying)浸入(ru)硅片或晶體中(zhong)。然(ran)(ran)(ran)后將(jiang)石(shi)英杯放入(ru)超(chao)聲波(bo)(bo)清洗(xi)設備中(zhong)（應(ying)(ying)向槽中(zhong)加(jia)入(ru)適量去離(li)(li)子(zi)(zi)水(shui)）進行超(chao)聲波(bo)(bo)清洗(xi)約5分(fen)(fen)鐘，倒(dao)出清洗(xi)液，然(ran)(ran)(ran)后用熱去離(li)(li)子(zi)(zi)水(shui)沖洗(xi)約5分(fen)(fen)鐘以(yi)進行清洗(xi)。

4.注意事項

這個產(chan)品(pin)是堿性的。如果本產(chan)品(pin)不(bu)小心(xin)濺到皮膚上，請立(li)即用清水沖洗(xi)。如病情嚴重，應及時就醫。

5.包裝儲存

塑料桶包裝，可根據客戶要(yao)求。儲存于陰(yin)涼通風的倉庫內。